就洁净室,尤其是半导体工业洁净室而言,其负荷特点是:由于排风量大造成新风量大,故新风处理所需冷量消耗大;送风量大,输送动力消耗大,风机管道温升高;生产设备的---量大,消耗冷量大。这三项负荷之和一般占总负荷的70%~95%。
洁净室可以是单向流和非单向流组合在一起的混合流型,以在局部区域(单向流部分)实现别的洁净室。例如,在洁净室中设水平单向流的“隧道”(一侧敞开),洁净室的其余部分是涡流的单向流流型,从而实现“隧道”部分达到5级以上洁净度。
但如果等级低于1000级,就会影响修复效果。洁净度100级(iso4):大于等于0.5μm的尘粒数大于350粒/m3(0.35粒/l)到小于等于3500粒/m3(3.5粒/l);大于等于5μm的尘粒数为0。洁净度1000级(iso5):大于等于0.5μm的尘粒数大于3500粒/m3(3.5粒/l)
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